[发明专利]用于校准至少一个测距装置的校准系统有效
| 申请号： | 201680074346.3 | 申请日： | 2016-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN108463696B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 比约恩·朗根多夫;哈拉尔德·法贝尔;安德烈亚斯·罗泽 | 申请（专利权）人： | 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司 |
| 主分类号： | G01F23/292 | 分类号： | G01F23/292;G01S17/66;G01F25/00;G01S17/88;G01S7/497 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 穆森;戚传江 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种用于校准至少一个测距装置(2)的校准系统(1)。特别地，校准系统(1)适用于几乎同时校准多个填充水平测量装置。其特征在于提供反射镜装置(6)，通过所述反射镜装置，激光跟踪仪(5)可以确定到至少一个反射器(4)的至少一个距离(M |
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| 搜索关键词： | 用于 校准 至少 一个 测距 装置 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于校准至少一个测距装置(2)的校准系统(1)，包括：‑至少一个测量部分(3)，在所述至少一个测量部分处安装所述至少一个测距装置(2)，‑至少一个反射器(4)，所述至少一个反射器能够移动地安装在所述至少一个测量部分(3)上以反射从所述至少一个测距装置(2)发送的测量信号(Di)，以及‑激光跟踪仪(5)，其特征在于：提供反射镜装置(6)，所述反射镜装置使得所述激光跟踪仪(5)能够确定到所述至少一个反射器(4)的至少一个距离(Mi)以及到所述至少一个测距装置(2)的至少一个参考距离(Ri)。
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