[发明专利]用时变微波频率或多个微波频率微波照射室在审
申请号: | 201680074224.4 | 申请日: | 2016-10-12 |
公开(公告)号: | CN108472622A | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 保罗·E·金 | 申请(专利权)人: | 埃科卡技术有限公司 |
主分类号: | B01J19/12 | 分类号: | B01J19/12;B01J8/02;B01J8/18;B01J23/74;B01J23/745;B01J21/02;B01J23/40 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 康艳青;姚开丽 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 反应室含有一种或多种催化材料。一个或多个可调谐微波源各自发射在对应时变微波频率下或在同时多个不同微波频率下的微波辐射。一个或多个微波传输元件用由一个或多个微波源发射的微波辐射照射该反应室的该内部体积,该微波辐射沿着该一个或多个传输元件传播到该反应室中。该反应室的特征在于固定频率的稳态温度空间分布的最大温度变化,该稳态温度空间分布通过由在基本上固定的微波频率下和在参考微波功率水平下的微波辐射照射该反应室来产生。由具有一个或多个时变微波频率或同时多个不同微波频率的该微波辐射在该参考微波功率水平下照射该反应室引起具有最大温度变化的多频率温度空间分布,该最大温度变化小于该固定频率的稳态温度空间分布的最大温度变化。 | ||
搜索关键词: | 微波频率 反应室 微波辐射 最大温度变化 温度空间 稳态 微波功率水平 照射 固定频率 可调谐微波源 微波传输元件 传输元件 催化材料 微波照射 参考 发射 多频率 固定的 微波源 时变 用时 传播 | ||
【主权项】:
1.一种装置,该装置包括:(a)反应室,该反应室含有一种或多种催化材料;(b)一个或多个微波源,该一个或多个微波源被共同地布置为发射同时在多个不同微波频率下或在一个或多个时变微波频率下的微波辐射;以及(c)一个或多个微波传输元件,该一个或多个微波传输元件被布置为用沿着该一个或多个微波传输元件传播到该反应室中的部分(b)的该微波辐射照射该反应室的内部体积的至少部分,其中:(d)该反应室的特征在于固定频率的稳态温度空间分布的最大温度变化,该稳态温度空间分布通过由在单一基本上固定的微波频率下和在参考微波功率水平下的微波辐射沿着该一个或多个微波传输元件照射该内部体积来产生;并且(e)在由沿着部分(c)的该一个或多个微波传输元件传播的部分(b)的该微波辐射在该参考功率水平下照射该内部体积时,该多个不同的同时微波频率或该一个或多个时变微波频率引起具有最大温度变化的多频率温度空间分布,该最大温度变化小于该固定频率的稳态温度空间分布的该最大温度变化。
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