[发明专利]用时变微波频率或多个微波频率微波照射室

权利要求书

1.一种装置，该装置包括：

(a)反应室，该反应室含有一种或多种催化材料；

(b)一个或多个微波源，该一个或多个微波源被共同地布置为发射同时在多个不同微波频率下或在一个或多个时变微波频率下的微波辐射；以及

(c)一个或多个微波传输元件，该一个或多个微波传输元件被布置为用沿着该一个或多个微波传输元件传播到该反应室中的部分(b)的该微波辐射照射该反应室的内部体积的至少部分，

其中：

(d)该反应室的特征在于固定频率的稳态温度空间分布的最大温度变化，该稳态温度空间分布通过由在单一基本上固定的微波频率下和在参考微波功率水平下的微波辐射沿着该一个或多个微波传输元件照射该内部体积来产生；并且

(e)在由沿着部分(c)的该一个或多个微波传输元件传播的部分(b)的该微波辐射在该参考功率水平下照射该内部体积时，该多个不同的同时微波频率或该一个或多个时变微波频率引起具有最大温度变化的多频率温度空间分布，该最大温度变化小于该固定频率的稳态温度空间分布的该最大温度变化。

2.如权利要求1所述的装置，其中该一个或多个微波传输元件包括(i)连接至一个或多个对应微波天线的一个或多个同轴电缆、或(ii)一个或多个微波波导。

3.如权利要求1所述的装置，其中(i)部分(b)的该微波辐射包括该一个或多个时变微波频率，(ii)每个时变微波频率经历跨越对应微波调谐范围的周期性变化，并且(iii)该周期性变化的特征在于对应的频率变化周期。

4.如权利要求3所述的装置，其中每个对应的频率变化周期是在约10毫秒与约10秒之间。

5.如权利要求3所述的装置，其中每个对应的频率变化周期是足够短的，使得该多频率温度空间分布在由沿着部分(c)的该一个或多个微波传输元件传播的部分(b)的该微波辐射照射该内部体积期间实现基本上稳态。

6.如权利要求3所述的装置，其中至少一个对应的频率变化周期是足够长的，使得该多频率温度空间分布在由沿着部分(c)的该一个或多个微波传输元件传播的部分(b)的该微波辐射照射该内部体积期间随时间变化。

7.如权利要求3所述的装置，其中每个对应的微波调谐范围从约900MHz至约1000MHz、从约2000MHz至约2500MHz、或从约5500MHz至约7500MHz延伸。

8.如权利要求3所述的装置，其中(i)部分(b)的该微波辐射包括两个或更多个时变微波频率。

9.如权利要求8所述的装置，其中至少一个对应的微波调谐范围不同于至少另一个对应的微波调谐范围。

10.如权利要求8所述的装置，其中该两个或更多个时变微波频率全部跨越单一微波调谐范围而变化。

11.如权利要求3所述的装置，其中部分(b)的该微波辐射包括仅一个时变微波频率，该时变微波频率的特征在于仅单一频率变化周期和单一微波调谐范围。

12.如权利要求1所述的装置，其中部分(b)的该微波辐射包括相对于时间基本上恒定的该同时多个不同微波频率并且不包括任何时变微波频率。

13.如权利要求1所述的装置，其中仅单一微波传输元件照射该反应室的该内部体积。

14.如权利要求1所述的装置，其中多个微波传输元件照射该反应室的该内部体积。

15.如权利要求14所述的装置，其中该反应室沿着一个轴伸长，并且该多个微波传输元件的至少一个子集到该反应室中的对应进入点被圆周地围绕该轴布置、沿着该反应室纵向地布置、沿着该反应室并在该反应室周围螺旋布置，或使得部分(b)的该微波辐射通过该反应室纵向传播。