[发明专利]包括具有对齐的遮掩区的图形的装配的吸收制品部件有效

专利信息
申请号: 201680070179.5 申请日: 2016-12-07
公开(公告)号: CN108289769B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: J·A·瓦格纳;J·J·里奇霍尔特;R·J·津克二世 申请(专利权)人: 宝洁公司
主分类号: A61F13/496 分类号: A61F13/496;A61F13/514
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 宋莉
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文的吸收制品可包括具有图形的部件,所述图形包括未遮掩区和遮掩区,其中遮掩区由交替布置的印刷区域和未印刷区域限定。遮掩区赋予如下外观:图形为淡入淡出的或从未遮掩区中的相对高印刷强度区域逐渐过渡至相对低印刷强度区域。此外,图形还可在遮掩区和未遮掩区两者中用相对恒定的印刷密度来印刷,并且因此避免了许多与印刷带有淡入淡出的印刷强度区的图形相关联的非预期的负面效应和困难。因此,待结合到制造的吸收制品中的基底和/或部件包括具有可按这种方式定位和/或印刷的遮掩区的图形,该方式以便在功能上减少在其中定位所述图形的区域中进行的不精确的和/或不一致的装配操作的可注意到的可见结果。
搜索关键词: 包括 具有 对齐 遮掩 图形 装配 吸收 制品 部件
【主权项】:
1.一种吸收制品,所述吸收制品包括:第一弹性带(106),所述第一弹性带从第一纵向侧边缘(111a)侧向延伸至第二纵向侧边缘(111b),并且从外侧向端边(107a)纵向延伸至内侧向端边(107b),所述第一弹性带(106)还包括由中心区(106c)彼此分开的第一端区(106a)和侧向相对的第二端区(106b);第二弹性带(108),所述第二弹性带从第一纵向侧边缘(113a)侧向延伸至第二纵向侧边缘(113b),并且从外侧向端边(109a)纵向延伸至内侧向端边(109b),所述第二弹性带(108)还包括由中心区(108c)彼此分开的第一端区(108a)和侧向相对的第二端区(108b);基础结构(102),所述基础结构包括顶片(138)、底片(136)、和定位在所述顶片(138)和所述底片(136)之间的吸收芯(142),所述基础结构(102)还包括由裆区(119)彼此分开的第一腰区(116)和第二腰区(118),其中所述第一腰区(116)与所述第一弹性带(106)的中心区(106c)连接,并且所述第二腰区(118)与所述第二弹性带(108)的中心区(108c)连接;所述第一弹性带(106)上的第一图形(G1),所述第一图形(G1)包括第一区(Zu1)和遮掩区(Zm1a),所述遮掩区从所述第一区(Zu1)延伸至所述第一弹性带(106)的第一纵向侧边缘(111a),其中所述遮掩区(Zm1a)包括交替布置的多个印刷区域(Pr)和未印刷区域(Ur),其中所述未印刷区域(Ur)在所述第一弹性带(106)的内侧向端边(107b)和外侧向端边(107a)之间延伸,以便使所述印刷区域(Pr)彼此完全断开,所述多个未印刷区域(Ur)包括定位在内未印刷区域(UrI)和所述第一弹性带(106)的第一纵向侧边缘(111a)之间的外未印刷区域(UrO),每个未印刷区域(Ur)限定相邻印刷区域(Pr)之间的长度,其中所述外未印刷区域(UrO)的长度大于所述内未印刷区域(UrI)的长度,并且其中所述遮掩区(Zm1a)的印刷区域(Pr)和所述第一区(Zu1)各自包括最大印刷密度,其中所述遮掩区(Zm1a)的印刷区域(Pr)和所述第一区(Zu1)的最大印刷密度大致相等;所述第二弹性带(108)上的第二图形(G2),所述第二图形(G2)包括第一区(Zu2)和遮掩区(Zm2a),所述遮掩区从所述第一区(Zu2)延伸至所述第二弹性带(108)的第一纵向侧边缘(113a),其中所述遮掩区(Zm2a)包括交替布置的多个印刷区域(Pr)和未印刷区域(Ur),其中所述未印刷区域(Ur)在所述第二弹性带(108)的内侧向端边(109b)和外侧向端边(109a)之间延伸,以便使所述印刷区域(Pr)彼此完全断开,所述多个未印刷区域(Ur)包括定位在内未印刷区域(UrI)和所述第一弹性带(108)的第一纵向侧边缘(113a)之间的外未印刷区域(UrO),每个未印刷区域(Ur)限定相邻印刷区域(Pr)之间的长度,其中所述外未印刷区域(UrO)的长度大于所述内未印刷区域(UrI)的长度,并且其中所述遮掩区(Zm2a)的印刷区域(Pr)和所述第一区(Zu2)各自包括最大印刷密度,其中所述遮掩区(Zm2a)的印刷区域(Pr)和所述第一区(Zu2)的最大印刷密度大致相等;并且其中所述第一弹性带(106)的第一端区(106a)与所述第二弹性带(108)的第一端区(108a)连接,使得所述第一图形(G1)的遮掩区(Zm1a)与所述第二图形(G2)的遮掩区(Zm2a)对齐以形成邻接设计。
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