[发明专利]用于对对象进行X射线成像的装置有效
| 申请号： | 201680069968.7 | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN108289649B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | T·克勒;H-I·马克;T·普拉洛 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对对象进行X射线成像的装置。它被描述为提供(20)与对X射线的探测相关的数据，其中，X射线探测器被配置为相对于X射线源被定位，使得所述X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域。X射线干涉仪布置被配置为相对于所述检查区域被定位。确定透射通过所述对象的至少部分的X射线辐射的至少一个X射线暗场因数和至少一个透射因数。根据所确定的至少一个暗场因数和所确定的至少一个透射因数的函数来控制要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 对象 进行 射线 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于对对象进行X射线成像的装置(200)，包括：‑X射线源(210)；‑X射线干涉仪布置(220)；‑X射线探测器(230)；以及‑处理单元(240)；其中，所述X射线探测器被配置为相对于所述X射线源被定位，使得所述X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域，并且所述X射线探测器被配置为向所述处理单元提供与对已经至少部分地穿过所述X射线干涉仪布置的X射线的探测相关的数据；其中，所述X射线干涉仪布置被配置为被定位在所述X射线源与所述检查区域之间或者在所述X射线探测器与所述检查区域之间；其中，所述处理单元被配置为确定透射通过所述对象的至少部分的X射线辐射的至少一个透射因数，并且所述处理单元被配置为确定透射通过所述对象的至少部分的所述X射线辐射的至少一个暗场因数；并且其中，所述处理单元被配置为根据所确定的至少一个透射因数和所确定的至少一个暗场因数的函数来自动控制要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的强度。
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