[发明专利]用于对对象进行X射线成像的装置

权利要求书

1.一种用于对对象进行X射线成像的装置(200)，包括：

-X射线源(210)；

-X射线干涉仪布置(220)；

-X射线探测器(230)；以及

-处理单元(240)；

其中，所述X射线探测器被配置为相对于所述X射线源被定位，使得所述X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域，并且所述X射线探测器被配置为向所述处理单元提供与对已经至少部分地穿过所述X射线干涉仪布置的X射线的探测相关的数据；

其中，所述X射线干涉仪布置被配置为被定位在所述X射线源与所述检查区域之间或者在所述X射线探测器与所述检查区域之间；

其中，所述处理单元被配置为确定透射通过所述对象的至少部分的X射线辐射的至少一个透射因数，其中，所述至少一个透射因数是透射通过所述对象的所述至少部分的所述X射线辐射的强度的分数，并且所述处理单元被配置为确定透射通过所述对象的至少部分的所述X射线辐射的至少一个暗场因数，其中，所述至少一个暗场因数是条纹可见度被所述对象的所述至少部分减小的分数；并且

其中，所述处理单元被配置为根据所确定的至少一个透射因数和所确定的至少一个暗场因数的函数来自动控制要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的强度。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述处理单元被配置为根据所确定的至少一个暗场因数的单调递减函数来控制要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的所述强度。

3.根据权利要求1-2中的任一项所述的装置，其中，所述处理单元被配置为根据所确定的至少一个透射因数的单调递减函数来控制要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的所述强度。

4.根据权利要求1-2中的任一项所述的装置，其中，所述X射线干涉仪布置能相对于所述检查区域定位，使得由所述X射线探测器探测到的X射线没有全部都穿过所述X射线干涉仪布置；并且其中，所述处理单元被配置为根据所述至少一个透射因数的函数来确定所述至少一个暗场因数。

5.根据权利要求1-2中的任一项所述的装置，其中，所述处理单元被配置为确定所述对象的部分内的感兴趣区域，并且其中，所述对象的所述至少部分是所述感兴趣区域。

6.一种用于对对象进行X射线成像的方法(10)，包括：

a)提供(20)与对X射线的探测相关的数据，其中，X射线探测器被配置为相对于X射线源被定位，使得所述X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域，并且其中，X射线干涉仪布置被配置为被定位在所述X射线源与所述检查区域之间或者在所述X射线探测器与所述检查区域之间；

b)确定(30)透射通过所述对象的至少部分的X射线辐射的至少一个暗场因数，其中，所述至少一个暗场因数是条纹可见度被所述对象的所述至少部分减小的分数；

c)确定(40)透射通过所述对象的至少部分的所述X射线辐射的至少一个透射因数，其中，所述至少一个透射因数是透射通过所述对象的所述至少部分的所述X射线辐射的强度的分数；并且

d)根据所确定的至少一个暗场因数和所确定的至少一个透射因数的函数来自动控制(50)要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的强度。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，步骤d)包括根据所确定的至少一个暗场因数的单调递减函数来控制(70)要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的所述强度，并且/或者根据所确定的至少一个透射因数的单调递减函数来控制(80)要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的所述强度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，步骤d)包括根据所确定的至少一个透射因数的平方根的倒数的函数来控制(90)要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的所述强度。