[发明专利]晶体硅系太阳能电池的制造方法和晶体硅系太阳能电池模块的制造方法有效
申请号: | 201680064015.1 | 申请日: | 2016-11-04 |
公开(公告)号: | CN108352417B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 足立大辅;寺下彻;宇都俊彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L21/288;H01L31/0747 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李书慧;金世煜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
太阳能电池在n型晶体硅基板(1)的第一主面(51)上具备第一本征硅系薄膜(2)、p型硅系薄膜(3)、第一透明电极层(4)和图案集电极(11),在n型晶体硅基板的第二主面(52)上具备第二本征硅系薄膜(7)、n型硅系薄膜(8)、第二透明电极层(9)和镀覆金属电极(21)。在n型晶体硅基板的第一主面的周缘上设有除去了第一透明电极层与第二透明电极层的短路的绝缘区域(41)。本发明的制造方法中,在第一本征硅系薄膜形成后,形成第二本征硅系薄膜。镀覆金属电极以在n型晶体硅基板的第一主面的周缘上设有绝缘区域的状态通过电镀法而形成。图案集电极的厚度d |
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搜索关键词: | 晶体 太阳能电池 制造 方法 模块 | ||
【主权项】:
1.一种晶体硅系太阳能电池的制造方法,所述晶体硅系太阳能电池具备:具有第一主面和第二主面的n型晶体硅基板,依次形成于所述n型晶体硅基板的第一主面上的第一本征硅系薄膜、p型硅系薄膜、第一透明电极层和图案集电极,依次形成于所述n型晶体硅基板的第二主面上的第二本征硅系薄膜、n型硅系薄膜、第二透明电极层和镀覆金属电极;在所述n型晶体硅基板的第一主面的周缘上具有除去了第一透明电极层与第二透明电极层的短路的绝缘区域,所述晶体硅系太阳能电池的制造方法具有如下工序:第一本征硅系薄膜形成工序,在所述n型晶体硅基板的第一主面上和侧面上形成第一本征硅系薄膜,p型硅系薄膜形成工序,在所述第一本征硅系薄膜上形成p型硅系薄膜,第一透明电极层形成工序,在所述n型晶体硅基板的第一主面侧的除周缘以外的整个区域上形成第一透明电极层,第二本征硅系薄膜形成工序,在所述n型晶体硅基板的第二主面上和侧面上形成第二本征硅系薄膜,n型硅系薄膜形成工序,在所述第二本征硅系薄膜上形成n型硅系薄膜,第二透明电极层形成工序,在所述n型晶体硅基板的第二主面侧的整个面和侧面形成第二透明电极层,图案集电极形成工序,在所述第一透明电极层上形成图案集电极,以及镀覆金属电极形成工序,以在所述n型晶体硅基板的第一主面的周缘上具有所述绝缘区域的状态,通过电镀法在所述第二透明电极层上形成镀覆金属电极;在所述第一本征硅系薄膜形成工序之后,实施所述第二本征硅系薄膜形成工序,所述图案集电极的厚度d1大于所述镀覆金属电极的膜厚d2。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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