[发明专利]光源装置以及投光装置在审
| 申请号： | 201680055261.0 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN108027125A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 深草雅春;山口秀雄;上野博隆;山中一彦 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | F21S41/173 | 分类号： | F21S41/173;F21V17/00;F21V29/502;F21V29/503;F21V29/507;F21V29/70;F21W131/20;F21Y115/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴秋明 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光源装置(1)具备：支架(40)，其具有第1面(41)和位于第1面(41)的上方的第2面(42)，且由一体物构成；半导体发光装置(10)，其配置在第1面(41)之上；光学元件组件(20)，其配置在半导体发光装置(10)的上方，反射面(21a)相对于第1面(41)倾斜，且反射来自半导体发光装置(10)的出射光(51)；和荧光体光学元件(30)，其配置第2面(42)上，且被照射来自光学元件组件(20)的反射光(54)。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 以及 | ||
【主权项】：
1.一种光源装置，具备：支架，其具有第1面和位于所述第1面上方的第2面，且由一体物构成；半导体发光装置，其配置在所述第1面上；反射光学元件，其配置在所述半导体发光装置的上方，反射面相对于所述第1面倾斜，且反射来自所述半导体发光装置的出射光；和荧光体光学元件，其配置在所述第2面上，且被照射来自所述反射光学元件的反射光。
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