[发明专利]PZT铁电体膜的形成方法有效
| 申请号： | 201680049774.0 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN108352443B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 田头裕己;志村礼司郎;高村禅;李金望;下田达也;渡边敏昭;曾山信幸 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人北陆先端科学技术大学院大学;三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/43 | 分类号： | H01L41/43;H01L41/318;H01L21/316;H01L21/8246;H01L27/105;H01L41/187 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 童春媛;鲁炜 |
| 地址： | 日本石川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明包括下述的工序：涂布PZT铁电体膜形成用液体组合物的工序；将涂布液体组合物而得的膜干燥的工序；对已干燥的膜在含氧气氛下以150～200℃的温度进行紫外线照射的工序；以及，将涂布工序、干燥工序及紫外线照射工序进行1次或2次以上之后，在含氧气氛下以0.5℃/秒以上的速度升温、或在不含氧气氛下以0.2℃/秒以上的速度升温，并保持于400～500℃的温度，由此将经紫外线照射的铁电体膜前体膜煅烧而结晶的工序。其中，设定液体组合物的每1次的涂布量，使得每涂布1次的铁电体膜的厚度为150nm以上，且在紫外线照射时供给臭氧。 | ||
| 搜索关键词： | pzt 铁电体 形成 方法 | ||
【主权项】：
1. PZT铁电体膜的形成方法，其包括下述的工序：涂布PZT铁电体膜形成用液体组合物的工序；将涂布前述液体组合物而得的膜干燥的工序；对前述已干燥的膜在含氧气氛下以150～200℃的温度进行紫外线照射的工序；以及将前述涂布工序、前述干燥工序及前述紫外线照射工序进行1次或2次以上之后，在含氧气氛下以0.5℃/秒以上的速度升温、或在不含氧气氛下以0.2℃/秒以上的速度升温，并保持于400～500℃的温度，由此将前述经紫外线照射的铁电体膜的前体膜煅烧而结晶的工序，其中，设定前述液体组合物的每1次的涂布量，使得每涂布1次的前述铁电体膜的厚度为150nm以上，且在前述紫外线照射时供给臭氧。
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