[发明专利]晶圆的清洗方法和该清洗方法中使用的化学溶液

摘要

提供利用包含氯乙烯树脂作为液体接触构件的清洗装置的晶圆的清洗方法中使用的拒水性保护膜形成用化学溶液。一种化学溶液，其包含下述通式[1]所示的烷氧基硅烷；选自由下述通式[2]所示的磺酸、该磺酸的酸酐、该磺酸的盐、和下述通式[3]所示的磺酸衍生物组成的组中的至少1种；以及稀释溶剂，上述稀释溶剂含有选自由烃、醚和硫醇组成的组中的至少1种溶剂。(R1)aSi(H)b(OR2)4‑a‑b[1]；R3‑S(＝O)2OH[2]；R3‑S(＝O)2O‑Si(H)3‑c(R4)c[3]。

主权项

一种晶圆的清洗方法，其是利用含有氯乙烯树脂作为液体接触构件的晶圆的清洗装置对表面具有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分含有硅元素的晶圆进行清洗的方法，将拒水性保护膜形成用化学溶液保持在所述凹凸图案的至少凹部，从而在该凹部表面形成拒水性保护膜，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：下述通式[1]所示的烷氧基硅烷；选自由下述通式[2]所示的磺酸、该磺酸的酸酐、该磺酸的盐和下述通式[3]所示的磺酸衍生物组成的组中的至少1种；以及稀释溶剂，所述稀释溶剂含有选自由烃、醚和硫醇组成的组中的至少1种溶剂，该烃、醚和硫醇的总量相对于所述稀释溶剂的总量100质量％为80～100质量％，(R1)aSi(H)b(OR2)4‑a‑b  [1]式[1]中，R1各自彼此独立地为选自任选一部分或全部的氢元素被氟元素取代的碳数为1～18的一价烃基中的至少1种基团，R2各自彼此独立地为任选一部分或全部的氢元素被氟元素取代的碳数为1～18的一价烃基，a为1～3的整数，b为0～2的整数，a与b的总计为3以下，R3‑S(＝O)2OH  [2]式[2]中，R3为选自由任选一部分或全部的氢元素被氟元素取代的碳数为1～8的一价烃基、和羟基组成的组中的基团，R3‑S(＝O)2O‑Si(H)3‑c(R4)c  [3]式[3]中，R3为任选一部分或全部的氢元素被氟元素取代的碳数为1～8的一价烃基，R4各自彼此独立地为选自任选一部分或全部的氢元素被氟元素取代的碳数为1～18的一价烃基中的至少1种基团，c为1～3的整数。