[发明专利]氢气回收系统及氢气的分离回收方法有效
| 申请号： | 201680044982.1 | 申请日： | 2016-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN107848796B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 石田昌彦;祢津茂义;齐藤弘;田中秀二 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C01B3/56 | 分类号： | C01B3/56;B01J20/18;B01D53/78;B01D53/82;B01D53/96;B01J20/20;B01J20/34;C01B33/035;C01B39/44;B01D53/68;B01D53/72;B01D53/75 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 盛曼;金龙河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的氢气回收系统由从来自多晶硅制造工序的含有氢的反应废气中冷凝分离氯硅烷类的冷凝分离装置(A)、对含有氢的反应废气进行压缩的压缩装置(B)、使含有氢的反应废气与吸收液接触而将氯化氢吸收分离的吸收装置(C)、由用于将含有氢的反应废气中包含的甲烷、氯化氢及氯硅烷类的一部分吸附除去的填充有活性炭的吸附塔构成的第一吸附装置(D)、由将含有氢的反应废气中包含的甲烷吸附除去的填充有合成沸石的吸附塔构成的第二吸附装置(E)和将使甲烷浓度降低后的纯化氢气回收的气体线路(F)构成。 | ||
| 搜索关键词： | 氢气 回收 系统 分离 方法 | ||
【主权项】：
一种氢气回收系统，其用于从来自以三氯硅烷作为原料制造多晶硅的装置的反应废气中分离回收氢气，所述氢气回收系统的特征在于，具备：A：从来自多晶硅制造工序的含有氢的反应废气中冷凝分离氯硅烷类的冷凝分离装置；B：对经过所述冷凝分离装置后的含有氢的反应废气进行压缩的压缩装置；C：使经过所述压缩装置后的含有氢的反应废气与吸收液接触而将氯化氢吸收分离的吸收装置；D：由用于将经过所述吸收装置后的含有氢的反应废气中包含的甲烷、氯化氢及氯硅烷类的一部分吸附除去的填充有活性炭的吸附塔构成的第一吸附装置；E：由将经过所述第一吸附装置后的含有氢的反应废气中包含的甲烷吸附除去的填充有合成沸石的吸附塔构成的第二吸附装置；和F：将从所述第二吸附装置排出的使甲烷浓度降低后的纯化氢气回收的气体线路。
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