[发明专利]光刻设备、控制方法及计算机程序产品有效
| 申请号: | 201680039522.X | 申请日: | 2016-06-02 |
| 公开(公告)号: | CN107735731B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
| 发明(设计)人: | B·范霍夫;W·T·特尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种光刻设备获得衬底的高度图(402)和在控制所述图案到所述衬底的成像时使用所述高度图。所述光刻设备被布置用于在控制所述成像时至少部分地忽略高度异常(B)。所述高度异常可以通过处理所述高度图来识别。例如,在一些实施例中,通过使用形状识别模型来识别所述高度异常。在一些实施例中,产生所述高度图(802)的修改版本,在所述修改版本中,至少部分地去除所述高度异常,且在控制所述图像时使用所述高度图的所述修改版本。可替代地,将异常图与所述(未修改的)高度图一起使用以控制成像。 | ||
| 搜索关键词: | 光刻 设备 控制 方法 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】:
一种用于使用光学投影系统将图案成像到衬底上的光刻设备,所述光刻设备被布置以获得表示所述衬底上的形貌变化的高度图,且所述光刻设备包括被布置以在控制所述图案到所述衬底上的成像时使用所述高度图的控制器,其中所述光刻设备还被布置以当控制所述成像时,至少部分地忽略在所述高度图的局部区域中所表示的高度异常。
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