[发明专利]光刻设备、控制方法及计算机程序产品有效

专利信息
申请号: 201680039522.X 申请日: 2016-06-02
公开(公告)号: CN107735731B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: B·范霍夫;W·T·特尔 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王静
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光刻 设备 控制 方法 计算机 程序 产品
【权利要求书】:

1.一种控制图案在衬底上的成像的方法,包括以下步骤:

获得所述衬底的高度图;

从所述高度图识别出高度异常区域,其中高度异常是指存在于衬底上且在高度图中表示的异常高度特征,所述异常高度特征是由衬底后侧和/或前侧上的污染物引起的;

使用所述高度图控制所述图案至所述衬底的成像;和

产生重叠图、使用所述高度图和所述已识别出的高度异常区域以识别重叠异常区域以及产生所述重叠图的修改版本的步骤,通过所述以下步骤中的任一步骤产生所述重叠图的修改版本:

至少部分地忽略重叠异常,或

将在所述重叠图的所述重叠异常区域中的重叠值或矢量由从在相邻于所述重叠异常区域的部位处的重叠值或矢量所得到的值或矢量替代;或

将模型化的高度异常从在所述重叠图中的重叠值或矢量中减去;或

将减小的权重应用至在所述重叠异常区域中的重叠值或矢量。

2.如权利要求1所述的方法,其中使用所述高度图的所述步骤包括产生所述高度图的修改版本,在所述修改版本中所述高度异常的表示被至少部分地去除,且在控制所述成像时使用所述高度图的所述修改版本。

3.如权利要求1所述的方法,其中使用所述高度图的所述步骤包括产生所述高度图的修改版本,在所述修改版本中在所述高度图的高度异常区域中的高度值由从在相邻于所述高度异常区域的部位处的高度值所获得的值替代。

4.如权利要求1所述的方法,其中使用所述高度图的所述步骤包括产生所述高度图的修改版本,在所述修改版本中从在所述高度图中的高度值中减去模型化的高度异常。

5.如权利要求1所述的方法,其中使用所述高度图的所述步骤包括产生所述高度图的修改版本,在所述修改版本中将减小的权重应用至在所述高度异常区域中的高度值。

6.如前述权利要求1至5中的任一项所述的方法,其中使用所述高度图的所述步骤包括产生规定所述已识别出的高度异常的部位的异常图数据,且将所述异常图数据与所述高度图一起使用来控制所述图案在所述衬底上的成像,以便减小在所述规定的部位处的所述高度图的影响。

7.如权利要求1-5中任一项所述的方法,其中所述重叠图包括二维矢量图,其中每个矢量表示重叠尺寸和方向。

8.一种计算机程序存储介质,所述计算机程序存储介质包括用于使光刻设备实施根据权利要求1至7中的任一项所述的方法的机器可读指令。

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