[发明专利]用于在具有非对称梯度的磁共振成像中进行伴随场校正的系统和方法在审

专利信息
申请号: 201680031013.2 申请日: 2016-05-25
公开(公告)号: CN107615080A 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 陶晟臻;J·D·奇萨思科;Y·舒;P·T·韦弗斯;M·A·伯恩斯特因 申请(专利权)人: 梅约医学教育与研究基金会
主分类号: G01R19/00 分类号: G01R19/00;G01R29/16
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 姬利永,钱慰民
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了用于在实施非对称磁场梯度的磁共振成像(“MRI”)系统中执行伴随场校正的系统和方法。一般而言,本文所描述的系统和方法可以针对诸如零阶、一阶和二阶伴随场之类的多阶伴随场的效应进行校正。
搜索关键词: 用于 具有 对称 梯度 磁共振 成像 进行 伴随 校正 系统 方法
【主权项】:
一种用于在利用具有非对称梯度系统的磁共振成像(MRI)系统所获取的数据中补偿一阶伴随场的方法,所述方法的步骤包括:(a)向计算机系统提供将利用所述MRI系统在数据采集期间应用的梯度波形;(b)利用所述计算机系统计算补偿梯度波形,所述补偿梯度波形当被添加到所提供的梯度波形时补偿一阶伴随场效应;(c)向所述MRI系统提供所述梯度波形和所述补偿梯度波形;以及(d)利用使用数据采集的所述MRI系统获取数据,所述MRI系统使用所提供的梯度波形和所提供的补偿梯度波形生成磁场梯度,其中,通过使用所提供的梯度波形和所提供的补偿梯度波形来生成所述磁场梯度,所获取的数据被补偿一阶伴随场效应。
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