[发明专利]干扰检测及所关注峰值解卷积有效
申请号: | 201680006335.1 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN107209151B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | G·伊沃什夫 | 申请(专利权)人: | DH科技发展私人贸易有限公司 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;G01N30/02;G01N30/72 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 马景辉 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 针对来自混合物的一或多种化合物,产生强度测量。针对被已知包含已知化合物的产物离子的所测量维度的范围,计算强度迹线。选择所述强度迹线的强度值。针对跨越所述范围的每一测量点,将每一强度迹线缩放为具有最小强度,将共同分量分布曲线作为跨越所述范围的所述经缩放强度迹线的所述最小强度的轮廓进行计算,且计算所述共同分量分布曲线的得分。选择最优共同分量分布曲线,与其它分布曲线的得分相比,所述最优共同分量分布曲线的得分最优地最小化所述共同分量分布曲线的最大值与所述每一测量点之间的距离、最大化所述共同分量分布曲线的面积且最小化从所述经缩放强度迹线减去所述共同分量分布曲线所得的面积。 | ||
搜索关键词: | 干扰 检测 关注 峰值 卷积 | ||
【主权项】:
一种用于从来自强度分布的两个或多于两个强度测量计算共同分量分布曲线的系统,其包括:质谱仪,其分析一或多种化合物,从而产生所述一或多种化合物的多个强度测量;及处理器,其进行以下操作:接收所述多个强度测量,针对所测量维度的范围从所述多个强度测量计算多个强度迹线,选择所述多个强度迹线的强度值,针对跨越所测量维度的所述范围的多个测量点中的每一测量点,将所述多个强度迹线中的每一强度迹线缩放为在所述每一测量点处具有所述强度值,计算所述每一测量点的共同分量分布曲线,所述共同分量分布曲线为跨越所述多个测量点的所述多个经缩放强度迹线的一或多个参数的函数,且计算所述共同分量分布曲线的得分,所述得分为所述共同分量分布曲线的一或多个参数及所述多个经缩放强度迹线的一或多个参数的函数,及基于所述多个所计算共同分量分布曲线的所述得分而从所述多个所计算共同分量分布曲线选择最优共同分量分布曲线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于DH科技发展私人贸易有限公司,未经DH科技发展私人贸易有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680006335.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种发动机增压器泄压装置
- 下一篇:纸币暂存模块及自动柜员机