[发明专利]干扰检测及所关注峰值解卷积有效

专利信息
申请号: 201680006335.1 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN107209151B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: G·伊沃什夫 申请(专利权)人: DH科技发展私人贸易有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N30/02;G01N30/72
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 马景辉
地址: 新加坡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 干扰 检测 关注 峰值 卷积
【权利要求书】:

1.一种用于从来自强度分布的两个或更多个强度测量计算共同分量分布曲线的系统,所述系统包括:

质谱仪,所述质谱仪分析一种或多种化合物,从而产生所述一种或多种化合物的多个强度测量;及

处理器,所述处理器进行以下操作:

接收所述多个强度测量,

针对所测量维度的范围从所述多个强度测量计算多个强度迹线,

选择所述多个强度迹线的强度值,

针对跨越所测量维度的所述范围的多个测量点中的每一测量点,

将所述多个强度迹线中的每一强度迹线缩放为在所述每一测量点处具有所述强度值,

计算所述每一测量点的共同分量分布曲线,所述共同分量分布曲线为跨越所述多个测量点的多个经缩放强度迹线的一个或多个参数的函数,并且

计算所述共同分量分布曲线的得分,所述得分为所述共同分量分布曲线的一个或多个参数及所述多个经缩放强度迹线的一个或多个参数的函数,以及

基于多个所计算共同分量分布曲线的得分而从所述多个所计算共同分量分布曲线选择最优共同分量分布曲线;以及

针对每一测量,通过以下操作计算共同分量分布曲线并且计算所述共同分量分布曲线的得分:

计算所述每一测量点的共同分量分布曲线作为跨越所述多个测量点的所述多个经缩放强度迹线的最小强度的轮廓,并且

计算所述共同分量分布曲线的得分,所述得分为所述共同分量分布曲线的最大值与所述每一测量点之间的距离、所述共同分量分布曲线的面积及从所述多个经缩放强度迹线减去所述共同分量分布曲线所得的面积的函数,以及

通过以下操作而选择最优共同分量分布曲线:

从所述多个所计算共同分量分布曲线选择最优共同分量分布曲线,与其它共同分量分布曲线的得分相比,所述最优共同分量分布曲线的得分最优地最小化所述共同分量分布曲线的最大值与所述每一测量点之间的距离、最大化所述共同分量分布曲线的面积并且最小化从所述多个经缩放强度迹线减去所述共同分量分布曲线所得的面积。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述多个强度迹线的所述强度值包括1。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述处理器进一步进行以下操作:

将所述多个强度迹线中的一强度迹线缩放为在所述测量点处具有用于计算所述最优共同分量分布曲线的所述强度值,从而产生经最优缩放强度迹线。

4.根据权利要求3所述的系统,其中所述处理器进一步进行以下操作:

通过将所述最优共同分量分布曲线与至少一个经最优缩放强度迹线进行比较而检测经最优缩放强度迹线中的至少一个干扰峰值。

5.根据权利要求4所述的系统,其中所述处理器通过从所述至少一个经最优缩放强度迹线减去所述最优共同分量分布曲线而将所述最优共同分量分布曲线与所述至少一个经最优缩放强度迹线进行比较。

6.根据权利要求3所述的系统,其中所述处理器进一步进行以下操作:

通过根据用于将所述强度迹线缩放为所述经最优缩放强度迹线的缩放因子的倒数来缩放所述最优共同分量分布曲线而重构对应于所述经最优缩放强度迹线的所关注化合物强度迹线。

7.根据权利要求6所述的系统,其中所述处理器进一步进行以下操作:

使用经重构的所关注化合物强度迹线来对产物离子进行定量。

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