[发明专利]通过离子照射进行的包覆件的除膜方法及除膜装置有效
| 申请号： | 201680002430.4 | 申请日： | 2016-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN106796863B | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 植村贤介;阿列克谢·G·列姆涅夫 | 申请（专利权）人： | 新明和工业株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明以提供一种除膜方法为技术问题，该除膜方法是对由像PCD(聚晶金刚石)那样的无机物包覆的刀具、机械零件等进行除膜以能够进行再利用的方法，进行离子照射时在被除膜基材(包覆件)不易产生死角，在温度方面在基材(金属制构件)不易产生脆性相，并且，能够经济且快速地进行除膜。该除膜方法是向在金属制构件的表面附着由无机物构成的覆膜而成的包覆件(1)照射离子流(7)、从所述金属制构件剥离所述覆膜的除膜方法，其特征在于，将包覆件(1)设置在两个以上的离子流(7)重叠的离子流集中部(7A)，不向包覆件(1)施加正负偏压地向包覆件(1)照射离子流(7)，利用这样的除膜方法能够解决所述技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 离子 照射 进行 包覆件 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种除膜方法，其是将在金属制构件的表面附着由无机物构成的覆膜而成的包覆件设置在两个以上的离子流重叠的离子流集中部、使所述包覆件向大地接地、向所述包覆件照射离子流、从所述金属制构件剥离所述覆膜的除膜方法，其特征在于，该除膜方法包括第1工序和第2工序，在所述第1工序中，使含67体积％以上的氧的第1气体等离子体化，生成气体离子，将得到的所述第1气体的离子流向所述包覆件照射来进行除膜，在第2工序中，使含80体积％以上的氩的第2气体等离子体化，生成气体离子，将得到的所述第2气体的离子流向所述包覆件照射来进行除膜，在所述第1工序之后执行所述第2工序。
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