[实用新型]一种降低颗粒污染的离子注入机有效
申请号: | 201621493048.1 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN206480589U | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 刘群超 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 王华英 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种降低颗粒污染的离子注入机,至少包括磁分析器、法拉第杯以及产生离子束的离子源,磁分析器的离子束出口处安装有过滤污染颗粒的石墨导向装置,石墨导向装置为一喇叭状的通道,且石墨导向装置的最小端开口位于磁分析器内,石墨导向装置的最大端开口固定于磁分析器的离子束出口处;同时在法拉第杯的底部设置一凹槽,用于接收所述法拉第杯内掉落的污染颗粒。本实用新型的改进不会对制程造成任何影响,可以过滤掉磁场筛选时产生的70%以上的污染颗粒,减少对晶圆的污染和down机时间,增加机台的工作效能并且可以提高产品良率减少因污染颗粒引起的报废。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 颗粒 污染 离子 注入 | ||
【主权项】:
一种降低颗粒污染的离子注入机,所述离子注入机至少包括磁分析器、法拉第杯以及产生离子束的离子源,其特征在于,所述磁分析器的离子束出口处安装有过滤污染颗粒的石墨导向装置,所述石墨导向装置为一喇叭状的通道,且所述石墨导向装置的最小端开口位于所述磁分析器内,所述石墨导向装置的最大端开口固定于所述磁分析器的离子束出口处。
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