[实用新型]一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置有效
| 申请号： | 201621323448.8 | 申请日： | 2016-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN206532874U | 公开（公告）日： | 2017-09-29 |
| 发明（设计）人： | 易涛;于瑞珍;李廷帅;江少恩 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | H01Q1/36 | 分类号： | H01Q1/36 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心11120 | 代理人： | 郭德忠,李爱英 |
| 地址： | 621037 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，利用脉冲激光作为激励源，与金属靶材料相互作用产生强电流脉冲驱动发射天线产生电磁脉冲，实现光能向微波辐射能量的转换，从而获得比较稳定可靠的电磁脉冲辐射。同时脉冲激光轰击金属靶材料会产生等离子体喷射，同时在金属靶杆上产生瞬态电流脉冲，利用同轴线缆将电流脉冲引导到微波暗室，驱动发射天线发射电磁脉冲辐射。一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，包括脉冲激光打靶系统和测试环境；其中脉冲激光打靶系统包括脉冲激光器1、聚焦透镜2、真空腔体3、金属靶4、玻璃窗口法兰6、真空电转接法兰7以及金属靶杆10；测试环境包括发射天线8和微波暗室9。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 脉冲 激光 激励 电磁 辐射 装置 | ||
【主权项】：
一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，其特征在于，包括脉冲激光打靶系统和测试环境；所述脉冲激光打靶系统包括脉冲激光器(1)、聚焦透镜(2)、真空腔体(3)、金属靶(4)、玻璃窗口法兰(6)、真空电转接法兰(7)以及金属靶杆(10)；所述聚焦透镜(2)放置于玻璃窗口法兰(6)前方，其中两者的距离为所述聚焦透镜(2)的焦距；所述玻璃窗口法兰(6)和真空电转接法兰(7)分别设置在真空腔体(3)的外壁上；所述金属靶(4)固定在金属靶杆(10)上，金属靶杆(10)安装在真空腔体(3)的内部；所述脉冲激光器(1)发射的脉冲激光经聚焦透镜(2)聚焦后经过玻璃窗口法兰(6)导入真空腔体(3)，并辐照在金属靶(4)上；所述测试环境包括发射天线(8)和微波暗室(9)；其中发射天线(8)放置在微波暗室(9)的内部作为发射源；同轴线缆(5)经过真空电转接法兰(7)将金属靶杆(10)与发射天线(8)连接起来，其中发射天线(8)被同轴线缆(5)传递来的由脉冲激光激励产生的电流脉冲驱动。
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