[实用新型]一种厚膜工艺塞孔真空工作台有效
申请号: | 201621190900.8 | 申请日: | 2016-10-28 |
公开(公告)号: | CN206100629U | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 王雅青;黄超;任春祥 | 申请(专利权)人: | 珠海市华晶微电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 赵蕊红 |
地址: | 519015 广东省珠海市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型属于厚膜电电路技术领域,尤其是涉及一种厚膜工艺塞孔真空工作台。包括真空台,所述的真空台中设有真空腔,所述的真空腔与真空源相连接,所述的真空台上从上到下依次设置有陶瓷基板、阻挡层、密封层和真空过滤均布层。优点在于一次印刷完成,由于采用透镜纸挡住塞孔浆料,所以可以一次将塞孔浆料吸入陶瓷基板连通孔内并填满;陶瓷基板表面无浆料溢出,由于一次印刷完成,不存在多次套印偏差;陶瓷基板连通孔内塞孔饱满,无空洞,使用透镜纸挡住塞孔浆料,浆料都留在孔内,且一次印刷,故有此效果;各位置塞孔效果都很好,一致性好,由于采用多孔石,各位置真空度均匀性好。 | ||
搜索关键词: | 一种 工艺 真空 工作台 | ||
【主权项】:
一种厚膜工艺塞孔真空工作台,其特征在于,包括真空台(1),所述的真空台(1)中设有真空腔(2),所述的真空腔(2)与真空源(3)相连接,所述的真空台(1)上从上到下依次设置有陶瓷基板(4)、阻挡层、密封层和真空过滤均布层。
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