[实用新型]一种离子注入机台反应腔的底座有效
| 申请号： | 201621106192.5 | 申请日： | 2016-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN206076194U | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 史坤 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/30 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人： | 杨立,陈振玉 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于一种半导体生产设备的零部件，具体涉及一种离子注入机台反应腔的底座。该底座包括位于所述反应腔底部的底板，所述底板上开设有三个进气孔，所述底板的上表面覆盖有保护挡板，所述保护挡板上开设有与所述进气孔一一对应的通孔，所述通孔的直径比与其对应的所述进气孔的直径大。本实用新型的有益效果为，在反应腔的底板上覆盖保护挡板，保护挡板可以有效的保护好其下方的底板并使底板上的进气孔不易堵塞，延长底板的使用寿命，保护挡板可更换且更换方便，只需定期更换保护挡板，就可保证离子注入机台的正常使用，大大降低机台保养成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 机台 反应 底座 | ||
【主权项】：
一种离子注入机台反应腔的底座，包括位于所述反应腔底部的底板(1)，所述底板(1)上开设有三个进气孔(2)，其特征在于，所述底板(1)的上表面覆盖有保护挡板(3)，所述保护挡板(3)上开设有与所述进气孔(2)一一对应的通孔(4)，所述通孔(4)的直径比与其对应的所述进气孔(2)的直径大0.5‑1.5mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司，未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201621106192.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
