[实用新型]一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构有效
| 申请号： | 201620790858.7 | 申请日： | 2016-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN205897050U | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 蒋伟楷 | 申请（专利权）人： | 广州市浩洋电子有限公司 |
| 主分类号： | F21V21/34 | 分类号： | F21V21/34;F21W131/105;F21W131/406 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人： | 林丽明 |
| 地址： | 511450 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及舞台灯机械技术领域，更具体地，涉及一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构。一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨、导轨固定座、滑块、支撑板和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板上，所述双导轨固定在所述导轨固定座上，所述滑块设于所述双导轨上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板上并与所述滑块连接，其中，所述双导轨的两根导轨之间设有公差虚位调节装置。本实用新型结构简单，使用方便，可以有效补偿导轨与滑块之间的公差虚位，从而提高运动机构的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自适应 调节 机械运动 虚位 导轨 运动 机构 | ||
【主权项】：
一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨（1）、导轨固定座、滑块（2）、支撑板（3）和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板（3）上，所述双导轨（1）由两根导轨组成且固定在所述导轨固定座上，所述滑块（2）设于所述双导轨（1）上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板（3）上并与所述滑块（2）连接，其特征在于，所述双导轨运动机构还包括用于调整双导轨（1）两根导轨之间间距的公差虚位调节装置。
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