[实用新型]用于将工艺气体供应到蒸发器源中的气体注入器单元有效
申请号: | 201620634127.3 | 申请日: | 2016-06-23 |
公开(公告)号: | CN206109530U | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | A·沃尔夫;M·格拉博斯基;M·布莱迪 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了一种配置成用于将工艺气体供应到蒸发器源中的气体注入器单元。所述蒸发器源包括间隔开的坩埚以用于处理基板,其中在所述坩埚之间设有间距。所述气体注入器单元包括气体注入器外壳,所述气体注入器外壳包括温度调整单元;气体引导管,所述气体引导管具有一个或多个气体入口端口以用于供应工艺气体,其中所述气体引导管被提供在所述气体注入器外壳内。多个气体出口管道与所述气体引导管流体地连通以提供用于反应沉积工艺的工艺气体。 | ||
搜索关键词: | 用于 工艺 气体 供应 蒸发器 中的 注入 单元 | ||
【主权项】:
一种配置成用于将工艺气体供应到蒸发器源中的气体注入器单元,所述蒸发器源具有间隔开的坩埚以用于处理基板,其中在所述坩埚之间设有间距,所述气体注入器单元包括:气体注入器外壳,所述气体注入器外壳包括温度调整单元;气体引导管,所述气体引导管具有一个或多个气体入口端口以用于供应工艺气体,其中所述气体引导管被提供在所述气体注入器外壳内;以及多个气体出口管道,所述多个气体出口管道与所述气体引导管流体地连通以用于提供用于反应沉积工艺的工艺气体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的