[实用新型]一种二极管自动清洗系统有效
| 申请号： | 201620620897.2 | 申请日： | 2016-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN205723472U | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 石治洪;陈林;朱灿;欧博;文海 | 申请（专利权）人： | 贵州雅光电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人： | 商小川 |
| 地址： | 550025 贵州省贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种二极管自动清洗系统，系统包括机身和清洗机构，机身上设置有清洗槽和模具传动机构，且模具传动机构沿横向穿过清洗槽，清洗机构包括供水管和喷头，喷头设置于供水管的一端，且喷头设置于清洗槽内，供水管上设置有控制阀。以解决现有二极管清洗方式清洗效率低，劳动强度高，需要占用大量的人力成本，且人工清洗常常会有疏漏，造成部分二极管清洗不充分，影响二极管质量等问题。本实用新型属于二极管加工领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 自动 清洗 系统 | ||
【主权项】：
一种二极管自动清洗系统，其特征在于：包括机身（1）和清洗机构（2），机身（1）上设置有清洗槽（3）和模具传动机构（4），且模具传动机构（4）沿横向穿过清洗槽（3），清洗机构（2）包括供水管（21）和喷头（22），喷头（22）设置于供水管（21）的一端，且喷头（22）设置于清洗槽（3）内，供水管（21）上设置有控制阀（23）。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
