[实用新型]真空镀膜设备

摘要

本实用新型属于纳米涂层技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备，包括设置在真空腔室中的靶材、敲击探头和样品基片，所述靶材与电源阴极相连，敲击探头与电源阳极相连，样品基片与靶材平行相对设置，所述敲击探头位于靶材与样品基片之间，所述敲击探头往复运动设置，并敲击靶材表面，所述靶材与敲击探头相对转动设置，使敲击探头能够沿靶材圆周方向均匀敲击靶材表面。本实用新型能够实现敲击点从某一固定点改变为360度的敲击轨道，不管是金属/合金，还是石墨靶材，都能够使靶材表面达到稳定的、均匀的和高沉积速率的刻蚀，并提高了靶材利用率，增加了设备的维护周期，降低了成本。

主权项

一种真空镀膜设备，包括设置在真空腔室（10）中的靶材（11）、敲击探头（13）和样品基片（12），所述靶材（11）与电源阴极相连，敲击探头（13）与电源阳极相连，样品基片（12）与靶材（11）平行相对设置，所述敲击探头（13）位于靶材（11）与样品基片（12）之间，所述敲击探头（13）往复运动设置，并敲击靶材（11）表面，其特征在于：所述靶材（11）与敲击探头（13）相对转动设置，使敲击探头（13）能够沿靶材（11）圆周方向均匀敲击靶材（11）表面。