[实用新型]真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201620512697.5 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN205774779U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 张心凤;郑杰;尹辉 | 申请（专利权）人： | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区创*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽纯源镀膜科技有限公司，未经安徽纯源镀膜科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620512697.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电容薄膜的镀膜设备的蒸发装置
- 下一篇：堆栈式溅射镀膜装置
- 同类专利
- 专利分类
