[发明专利]金属框架印迹材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611270725.8 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106633070B 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 王珊珊;王静;戚燕;佘永新;金芬;金茂俊;邵华;刘广洋;曹晓林 申请(专利权)人: 中国农业科学院农业质量标准与检测技术研究所
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;C08G77/06;C08K5/00;C08J9/28;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/30
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 吴啸寰
地址: 100000 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种金属框架印迹材料及其制备方法,涉及纳米材料技术领域。一种金属框架印迹材料的制备方法,包括以下步骤将由对苯二甲酸与磁性Fe3O4纳米粒子原位反应制备的磁性金属有机骨架化合物分散于溶剂中,加入模板分子、功能单体,交联反应后洗去模板分子;模板分子为二嗪农、对硫磷中的一种或两种;功能单体为3‑氨丙基三乙氧基硅烷和苯三甲氧基硅烷中的一种或两种。该制备方法工艺简单、成本低廉、环境友好度高、更易规模化。一种金属框架印迹材料,由上述方法制备而成。该金属框架印迹材料具有更好的稳定性、吸附性,识别性能好、选择性高、吸附容量大,可同时对环境及食品中多种有机磷类农药选择性去除和富集。
搜索关键词: 金属 框架 印迹 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种金属框架印迹材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将由对苯二甲酸与磁性Fe3O4纳米粒子原位反应制备的磁性金属有机骨架化合物分散于溶剂中,加入模板分子、功能单体,交联反应后洗去所述模板分子;所述模板分子为二嗪农、对硫磷中的一种或两种;所述功能单体为3‑氨丙基三乙氧基硅烷和苯三甲氧基硅烷中的一种或两种。
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