[发明专利]金属框架印迹材料及其制备方法

权利要求书

1.一种金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将由对苯二甲酸与磁性Fe₃O₄纳米粒子原位反应制备的磁性金属有机骨架化合物分散于溶剂中，加入模板分子、功能单体，交联反应后洗去所述模板分子；所述模板分子为二嗪农、对硫磷中的一种或两种；所述功能单体为3-氨丙基三乙氧基硅烷和苯三甲氧基硅烷中的一种或两种。

2.根据权利要求1所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，所述对苯二甲酸与所述磁性Fe₃O₄纳米粒子原位反应的方法包括：将所述磁性Fe₃O₄纳米粒子分散至含有FeCl₃的DMF溶液中，再与含所述对苯二甲酸的DMF溶液于反应釜内混合，在110～150℃下反应16～24h。

3.根据权利要求2所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，所述对苯二甲酸与所述磁性Fe₃O₄纳米粒子原位反应的步骤中，在110～150℃下反应16～24h后还包括：利用无水乙醇洗涤反应产物去除所述反应产物中的乙醇可溶物，在50～70℃的条件下干燥。

4.根据权利要求2或3任一项所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，所述磁性Fe₃O₄纳米粒子、所述FeCl₃、所述对苯二甲酸的质量比为1～2:20～40:15～33。

5.根据权利要求1所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，所述溶剂包括乙腈、甲醇、氯仿中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，向所述溶剂中加入所述模板分子、所述功能单体的方法包括：将所述磁性金属有机骨架化合物分散于所述溶剂后，进行持续搅拌，并在20～40min内将所述模板分子、所述功能单体加入所述溶剂中。

7.根据权利要求6所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，所述交联反应是以四乙基硅烷为交联剂、以氨水为催化剂，30～50℃下反应16～24h。

8.根据权利要求1所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，洗去所述模板分子的步骤中，采用的洗涤剂为乙酸、甲醇的体积比为1:8～10的混合溶剂。

9.根据权利要求1所述的金属框架印迹材料的制备方法，其特征在于，在所述交联反应步骤中，所述磁性金属有机骨架化合物、所述模板分子、所述功能单体的质量比为50～100:76:0.03～0.16。

10.一种金属框架印迹材料，其特征在于，由权利要求1～9任一项所述的金属框架印迹材料的制备方法制备。