[发明专利]气体组分自动控制的等离子体化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种气体组分自动控制的等离子体化学气相沉积设备，包括真空腔室，所述真空腔室上开设有快接接口，所述快接接口通过取样气路与用于检测真空腔室内气体组分的气相检测系统连接，气相检测系统的输出端与控制及反馈系统连接并将检测结果输出至控制及反馈系统，控制及反馈系统的输出端与质量流量计连接，控制及反馈系统输出控制信号来控制质量流量计给气量的大小。通过在等离子体化学气相沉积设备中添加气相检测系统和控制及反馈系统来实时检测并调控真空腔室内的气体组分，以达到提高成膜质量和提高成膜速率的效果。

主权项

一种气体组分自动控制的等离子体化学气相沉积设备，包括真空腔室，其特征在于，所述真空腔室上开设有快接接口，所述快接接口通过取样气路与用于检测真空腔室内气体组分的气相检测系统连接，气相检测系统的输出端与控制及反馈系统连接并将检测结果输出至控制及反馈系统，控制及反馈系统的输出端与质量流量计连接，控制及反馈系统输出控制信号来控制质量流量计给气量的大小。