[发明专利]一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法有效
| 申请号： | 201611261396.0 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106702468B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 王群;周东伟;陈志强 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C25D17/12 | 分类号： | C25D17/12;C25D17/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法属于薄膜材料制造领域。本发明以金属闭合环形带为阴极，该阴极采取立式的安装方式，使其侧面与镀槽底面呈垂直关系，并采用双向电沉积的形式进行镀膜，镀膜过程中环形阴极完全浸没在镀液中。本发明有效解决了环形阴极内侧的沉积问题，同时解决了析氢累积对金属薄膜质量的影响，实现了高效率连续制备金属薄膜的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电位 立式 浸没 阴极 高效 连续 制备 金属 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
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