[发明专利]一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法有效
| 申请号： | 201611261396.0 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106702468B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 王群;周东伟;陈志强 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C25D17/12 | 分类号： | C25D17/12;C25D17/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电位 立式 浸没 阴极 高效 连续 制备 金属 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法，应用如下装置，该装置包括电镀槽；集液槽；阴极传动系统；镀液循环过滤系统；电源和张力收卷控制系统；其特征在于，采用的阴极为闭合的环形金属带，该阴极的安装方式为立式安装，即环形带的侧面与镀槽的底面呈垂直状态；该环形阴极完全浸入在镀液中；
所述阴极传动系统由主动端和从动端两部分组成，环形阴极随传动辊的转动方向运动，挂靠的阳极垂直于镀槽底面，与环形阴极平行相对；
调节环形带的相对的两个内侧面之间的距离小于50mm，环形阴极随传动辊的转动方向运动。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该阴极的沉积方式为双向电沉积，即在阴极的相对的两个外侧面同时进行金属薄膜的电沉积过程，阳极与镀槽底面垂直，并与阴极的两外侧面呈立体平行的关系。
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