[发明专利]一种等离子处理装置有效
| 申请号： | 201611246787.5 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108257840B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 梁洁;涂乐义;叶如彬 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 潘朱慧 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子处理装置，等离子处理装置包括一个反应腔和反应腔内的上下电极，一个射频电源通过一根射频电缆连接并输出基波射频功率到所述下电极，使得上下电极之间产生电容耦合电场，并产生等离子体，所述下电极上方设置有一个静电夹盘，所述静电夹盘用于固定待处理基片，利用所述等离子体对基片进行处理。所述反应腔底壁下方包括一电接地的屏蔽板，所述屏蔽板围绕所述射频电缆，一介电材料环设置于射频电缆与屏蔽板之间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
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