[发明专利]一种硅微针基板及其制备方法在审
申请号: | 201611176719.6 | 申请日: | 2016-12-19 |
公开(公告)号: | CN106730309A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 郭文平;赵科研;许南发 | 申请(专利权)人: | 山东元旭光电股份有限公司 |
主分类号: | A61M37/00 | 分类号: | A61M37/00;C09K13/02;C09K13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 261000 山东省潍坊市高新*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅微针基板及其制备方法,硅微针制备方法包括硅基板清洗,硅基板保护膜,光刻,图形转移和湿法刻蚀硅基板步骤。硅基板净化后,在硅基板的两面生长二氧化硅膜,然后在二氧化硅膜上面遮盖上带有实体图形的掩膜板,经过光刻、曝光等将掩膜板上的实体图形转移到二氧化硅膜上,再利用湿法刻蚀硅基板制得针尖和针体,然后用BOE腐蚀去掉多余的二氧化硅膜得到硅微针基板。本发明工艺简单,仅需湿法刻蚀便可制得所需硅微针,避免了干法刻蚀带来的环境污染和大量资金使用,经济实惠,所制硅微针耐用性好,特别适合用于美容、医疗器械和生物医疗领域,尤其是透皮给药的异平面硅微针基板的制备,适合于大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅微针基板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硅微针基板,其特征在于,包括硅基板,所述硅基板上设有硅微针,所述硅微针是利用湿法腐蚀腐蚀所述硅基板得到的硅微针图形制成,所述硅微针呈两段式分布,所述硅微针下段呈多角锥状,所述硅微针上段为棱锥状结构。
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