[发明专利]一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺

摘要

本发明涉及一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺，包括柔性基底层，以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层。其制备工艺具体为，在柔性基底一侧，通过R2R工艺压印出金属网格直线槽。然后在金属网格直线槽中进行银浆刮涂和固化，得到金属网格层。随后在柔性基底层另一侧，采用UV紫外固化工艺，压印、固化形成具有高透光率的纳米结构。这种工艺方法相比于现有的金属网格柔性导电薄膜，由于增透减反的纳米结构的存在，进一步提高了透明导电薄膜的透光率。同时采用R2R加工方式，大大提高了效率，有利于大规模生产。该方法制备的产品在柔性电子、触摸屏等领域具有广泛的应用前景。

主权项

1.一种高透光率金属网格柔性导电薄膜，其特征在于，包括柔性基底层，以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层；所述的金属网格层为：在柔性基底层表面辊压直线交叉槽，然后将银浆涂布到直线交叉槽中，并进行烘烤、清洗得到的导电网格层；所述的直线交叉槽由两组平行的直线槽按夹角10°～90°交叉构成，其中，各直线槽的槽宽为50nm～10μm，相邻的直线槽的距离大小为100nm～500μm；所述的UV固化纳米结构层为具有紫外固化功能的透明胶水，压印到柔性基底层上之后通过紫外光固化形成的具有提高透光率的纳米结构阵列；所述的UV固化纳米结构层为提高透光率的纳米结构，该纳米结构为圆锥结构、四棱锥结构、半球状结构或半椭球状结构形成的具有一定高度和距离的纳米阵列结构。