[发明专利]一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺有效
| 申请号: | 201611113863.5 | 申请日: | 2016-12-07 |
| 公开(公告)号: | CN106856107B | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
| 发明(设计)人: | 易培云;张成鹏;张伟鑫;彭林法;来新民 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
| 主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 蒋亮珠 |
| 地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 透光率 金属 网格 柔性 导电 薄膜 及其 制备 工艺 | ||
本发明涉及一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺,包括柔性基底层,以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层。其制备工艺具体为,在柔性基底一侧,通过R2R工艺压印出金属网格直线槽。然后在金属网格直线槽中进行银浆刮涂和固化,得到金属网格层。随后在柔性基底层另一侧,采用UV紫外固化工艺,压印、固化形成具有高透光率的纳米结构。这种工艺方法相比于现有的金属网格柔性导电薄膜,由于增透减反的纳米结构的存在,进一步提高了透明导电薄膜的透光率。同时采用R2R加工方式,大大提高了效率,有利于大规模生产。该方法制备的产品在柔性电子、触摸屏等领域具有广泛的应用前景。
技术领域
本发明涉及一种柔性电子技术,特别是涉及一种高透光率柔性导电薄膜及其制备工艺。
背景技术
传统刚性电子器件由于延展性差、抗弯曲能力不足、重量大等缺点,越来越多的工程应用和需求呼唤柔性电子器件的诞生。柔性电子器件在柔性聚合物薄膜、塑料或薄金属基板上制作有机/无机电子器件,使得制备的器件既有柔性又有电子的复合功能。该技术自从提出以来,吸引了越来越多的研究者对其不断的探究和突破。由于该技术具有高效生产、低成本制造等有点,在信息、能源、医疗、国防、航天等领域具有广泛应用前景。
柔性显示器是柔性电子一个活跃的研究点。柔性屏幕具有占用空间小、重量轻、可折叠等优势,是当下时兴的技术热点。但是,现有的技术还不是很完备,特别是很难兼顾导电性和透光率两大性能。此外,均匀性也是一个很大的技术挑战。因此,制备出高导电性、高透光率的柔性屏幕是一项具有重大意义的、深远的任务。
发明内容
本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺。
本发明的目的可以通过以下技术方案来实现:一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,包括柔性基底层,以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层。金属网格层起到导电的作用,UV固化纳米结构层起到增加透光率的作用。
所述的柔性基底层为透明、可弯折的聚合物材料,包括常见的PET、PEN、PI、PPS、PC、PES、PEI、PAR或PCO柔性聚合物材料。
所述的金属网格层为:在柔性基底层表面辊压直线交叉槽,然后将银浆涂布到直线交叉槽中,并进行烘烤、清洗得到的导电网格层。
所述的直线交叉槽由两组平行的直线槽按夹角10°~90°交叉构成,其中,各直线槽的槽宽为50nm~10μm,相邻的直线槽的距离大小为100nm~500μm。
所述的UV固化纳米结构层为具有紫外固化功能的透明胶水,压印到柔性基底层上之后通过紫外光固化形成的具有提高透光率的纳米结构阵列。
所述的UV固化纳米结构层为提高透光率的纳米结构,该纳米结构为圆锥结构、四棱锥结构、半球状结构或半椭球状结构形成的具有一定高度和距离的纳米阵列结构。
所述的纳米阵列结构的直径为30nm~800nm,结构高度为50nm~900nm,结构距离为50nm~2000nm。
采用R2R的方式来制备上述高透光率金属网格柔性导电薄膜。具体制备工艺包括以下步骤:
1)准备好柔性基底、金属网格直线槽模具、UV固化纳米结构层模具;
2)将金属网格直线槽模具粘紧在金属网格直线槽成型辊上,将UV固化纳米结构层模具粘紧在UV固化纳米结构层成型辊上;
3)柔性聚合物分别经过:放卷-张紧力调节辊-压力辊-金属网格直线槽成型辊-保形辊-银浆自动刮涂-烘干箱-压力辊-支承辊-UV胶涂布-UV固化纳米结构层成型辊-紫外光固化-脱模-保形辊-支承辊-收卷得到正面具有金属网格层、背面具有纳米阵列结构层的薄膜,
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