[发明专利]一种偏振无关宽带反射光栅在审
| 申请号： | 201611079900.5 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108121022A | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 徐建卫 | 申请（专利权）人： | 上海矽越光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 邓文武 |
| 地址： | 201612 上海市松江区漕河泾开*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种偏振无关宽带反射光栅，包括基底，基底上依次设置有金属层，第一薄膜层和第二薄膜层，所述第二薄膜层上刻蚀有矩形光栅，所述矩形光栅包括外层光栅、中间层光栅和内层光栅，所述光栅周期为1‑1.18μm，所述刻蚀深度为1.12‑1.34μm，中间层光栅的厚度为0.52‑0.74μm；本发明的偏振无关宽带反射光栅结构简单，偏振无关、带宽。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振无关 宽带反射光栅 薄膜层 中间层光栅 光栅 矩形光栅 基底 刻蚀 光栅周期 依次设置 金属层 内层 带宽 | ||
【主权项】：
一种偏振无关宽带反射光栅，包括基底（1），基底（1）上依次设置有金属层（2），第一薄膜层（3）和第二薄膜层（4），所述第二薄膜层（4）上刻蚀有矩形光栅，所述矩形光栅包括外层光栅（5）、中间层光栅（6）和内层光栅（7），所述光栅周期为1‑1.18μm，所述光栅的刻蚀深度为1.12‑1.34μm，中间层光栅（6）的厚度为0.52‑0.74μm。
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