[发明专利]阿立哌唑光降解杂质的制备方法有效
| 申请号： | 201611077656.9 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106749005B | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 苗得足;胡清文;李乐祥;于志波;王海;王宏光 | 申请（专利权）人： | 瑞阳制药有限公司 |
| 主分类号： | C07D215/22 | 分类号： | C07D215/22 |
| 代理公司： | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人： | 马俊荣 |
| 地址： | 256100 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阿立哌唑光降解杂质的制备方法，属于药物合成技术领域。本发明所述的阿立哌唑光降解杂质的制备方法，是以2,3‑二氯苯胺为原料，与化合物Ⅴ反应生成化合物Ⅱ，化合物Ⅱ与化合物Ⅲ反应得到目标产物化合物I。所述化合物Ⅴ中的A为Cl、Br、COOH、CHO或COCl基团；A’为NH2或NO2基团；n＝1或2。本发明所述的阿立哌唑光降解杂质的制备方法，其合成路线合理，原料易得，操作简单易行，所得目标产物的收率高，纯度高。 | ||
| 搜索关键词： | 阿立哌唑 光降解 制备 目标产物 反应生成化合物 二氯苯胺 合成路线 药物合成 收率 | ||
【主权项】：
1.一种阿立哌唑光降解杂质的制备方法，其特征在于：反应路线为以下路线中的一种：(a)以2,3‑二氯苯胺为原料，与化合物Ⅴ反应生成化合物Ⅳ，然后化合物Ⅳ经过硝基还原生成化合物Ⅱ，化合物Ⅱ与化合物Ⅲ反应得到目标产物化合物I；所述化合物Ⅴ中的A为Cl、Br或CHO基团；A’为NO2基团；n＝1或2；(b)以2,3‑二氯苯胺为原料，与化合物Ⅴ反应生成化合物Ⅱ，化合物Ⅱ与化合物Ⅲ反应得到目标产物化合物I；所述化合物Ⅴ中的A为Cl、Br、COOH、CHO或COCl基团；A’为NH2基团；n＝1或2；反应方程式如下：![]()
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