[发明专利]一种投影曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201611073752.6 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN108121162B | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 陈跃飞;陈飞彪;于大维;潘炼东 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影曝光装置及曝光方法，包括沿光路方向依次设置的照明光源、掩模版、掩模台、投影物镜阵列、对准测量系统阵列和工件台，所述工件台上设有玻璃基板，所述对准测量系统阵列中的对准测量系统与所述投影物镜阵列中的投影物镜一一对应，所述玻璃基板上设有两行对准标记阵列，所述对准标记阵列中相邻两个对准标记的间距与所述对准测量系统阵列中相邻两个对准测量系统的间距相同。本发明提高了对准标记和对准测量系统的空间布局灵活性；减少了对准标记和对准检测系统的数量，对准检测系统的数目和投影物镜的数目相同，减少了对准过程的时间消耗，提高了检测效率。 | ||
| 搜索关键词： | 对准测量 投影物镜 对准标记 系统阵列 对准标记阵列 对准检测系统 投影曝光装置 玻璃基板 空间布局 时间消耗 依次设置 照明光源 曝光 工件台 掩模版 掩模台 光路 对准 检测 | ||
【主权项】：
1.一种投影曝光装置，其特征在于，包括沿光路方向依次设置的照明光源、掩模版、掩模台、投影物镜阵列、对准测量系统阵列和工件台，所述工件台上设有玻璃基板，所述对准测量系统阵列中的对准测量系统与所述投影物镜阵列中的投影物镜一一对应，所述玻璃基板上设有两行对准标记阵列，所述对准标记阵列中相邻两个对准标记的间距与所述对准测量系统阵列中相邻两个对准测量系统的间距相同；所述投影曝光装置还包括与所述掩模台、工件台连接的控制系统，控制所述掩模台、工件台相对运动。
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