[发明专利]一种投影曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种投影曝光装置，其特征在于，包括沿光路方向依次设置的照明光源、掩模版、掩模台、投影物镜阵列、对准测量系统阵列和工件台，所述工件台上设有玻璃基板，所述对准测量系统阵列中的对准测量系统与所述投影物镜阵列中的投影物镜一一对应，所述玻璃基板上设有两行对准标记阵列，所述对准标记阵列中相邻两个对准标记的间距与所述对准测量系统阵列中相邻两个对准测量系统的间距相同；所述投影曝光装置还包括与所述掩模台、工件台连接的控制系统，控制所述掩模台、工件台相对运动。

2.根据权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，所述投影物镜的中轴线与曝光扫描方向平行，所述对准测量系统设于对应投影物镜的中轴线上。

3.根据权利要求2所述的投影曝光装置，其特征在于，所述对准测量系统沿非曝光扫描方向排列。

4.根据权利要求2所述的投影曝光装置，其特征在于，所述投影物镜沿非曝光扫描方向错位排列。

5.根据权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，每行所述对准标记阵列中对准标记的数量与所述对准测量系统阵列中对准测量系统的数量相同。

6.一种投影曝光装置的曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：步进工件台，将玻璃基板上的第一对准标记阵列移入对准测量系统阵列的视场内；

S2：通过对准测量系统阵列测量第一对准标记阵列在工件台坐标系下的位置坐标；

S3：再次步进工件台，将玻璃基板上的第二对准标记阵列移入对准测量系统阵列的视场内；

S4：通过对准测量系统阵列测量第二对准标记阵列在工件台坐标系下的位置坐标；

S5：根据步骤S2、S4中计算得到的第一、第二对准标记阵列的位置坐标，计算掩模版与玻璃基板待曝光区域的相对位置关系；

S6：根据步骤S5得到掩模版与玻璃基板待曝光区域的相对位置关系移动工件台进行补偿；

S7：通过控制系统同步移动掩模台及工件台进行扫描曝光，形成图形区。

7.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤S1和S3中，通过控制系统控制工件台步进运动，使工件台沿着曝光扫描方向移动。

8.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤S5中，所述掩模版与曝光区域的相对位置关系包括旋转关系、平移关系和缩放关系。