[发明专利]基于Bi基四元卤化物单晶的半导体辐射探测器及制备方法有效
| 申请号: | 201611071705.8 | 申请日: | 2016-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN106711272B | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
| 发明(设计)人: | 唐江;潘伟程;巫皓迪;罗家俊;牛广达;周英 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | G01T1/24 | 分类号: | G01T1/24 |
| 代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 张建伟 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种基于Bi基四元卤化物单晶的半导体辐射探测器及其制备方法,涉及半导体材料制备的射线成像探测器技术领域。所述的半导体辐射探测器结构包括以Bi基四元卤化物单晶作为射线吸光层,电子选择性接触选择层,空穴选择性接触层,分别贴合在所述吸光层的两面,两个电极分别与两个选择性电荷接触层接触,作为器件的正极和负极。本发明的半导体辐射探测器具备高灵敏度,环境友好,稳定等优点。 | ||
| 搜索关键词: | 基于 bi 基四元 卤化物 半导体 辐射 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于Bi基四元卤化物单晶的半导体辐射探测器,其特征在于,包括吸光层和两个电极;其中:所述吸光层是Bi基四元卤化物单晶晶体制成,用于吸收高能射线,产生电子-空穴对,其中,所述Bi基四元卤化物为Cs2 AgBiX6 ,其中X为Cl或Br;所述两个电极,分别与吸光层接触,作为所述半导体辐射探测器的正极和负极;两个电极的工作偏压0.1V-10V;所述高能射线包括X射线和Gama射线,能量大于20Kev。
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