[发明专利]成膜系统、磁性体部以及膜的制造方法有效
申请号: | 201611050493.5 | 申请日: | 2016-11-23 |
公开(公告)号: | CN106906441B | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 河野贵志;佐藤享;竹见崇 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/50 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供成膜系统、磁性体部以及膜的制造方法。形成了这样的成膜装置:不会产生膜质量不均且能够使掩模长期紧密贴合于基板,另外,能够以1个腔室应对多种掩模图案,而且,即使在改变掩模的情况下也无需更换磁铁等,不会导致装置成本升高且能够实现装置运转率的提高。一种成膜系统,其在利用配置于基板的与具有开口的掩模相反的一侧的磁铁将所述掩模向基板侧吸引的状态下在所述基板上形成膜,其中,在所述磁铁与所述基板之间设置有磁性体部,所述磁性体部使得与所述掩模的开口部对应的区域中的所述磁铁的磁力小于与所述掩模的非开口部对应的区域中的所述磁铁的磁力。 | ||
搜索关键词: | 系统 磁性 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种成膜系统,其在利用配置于基板的与具有开口的掩模相反的一侧的磁铁将所述掩模向基板侧吸引的状态下在所述基板上形成膜,其特征在于,在所述磁铁与所述基板之间设置有磁性体部,所述磁性体部使得与所述掩模的开口部对应的区域中的所述磁铁的磁力小于与所述掩模的非开口部对应的区域中的所述磁铁的磁力。
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