[发明专利]一种InP量子点的制备方法及InP量子点有效
申请号: | 201611047783.4 | 申请日: | 2016-11-23 |
公开(公告)号: | CN106701076B | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 张卫;张超;王允军 | 申请(专利权)人: | 苏州星烁纳米科技有限公司 |
主分类号: | C09K11/70 | 分类号: | C09K11/70;C09K11/02;C09K11/88 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215123 江苏省苏州市工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种InP量子点的制备方法,包括以下步骤:a)将铟前驱体加入到含有第一配体的非配位溶剂中,形成均匀的铟‑第一配体溶液;b)将所述铟‑第一配体溶液升温至180‑260℃,加入PH3,得到具有较小粒径InP纳米晶核的混合体系;c)向所述混合体系中依次交替加入铟‑第二配体溶液和PH3,得到粒径较大的InP纳米晶核;d)加入合成量子点的壳层所需的前体物质,得到具有壳层包覆的InP量子点。该方法以PH3为磷源,通过交替加入原料的方法,量子点的生长变得更加均匀,并更容易制备出粒径较大的InP量子点。 | ||
搜索关键词: | 量子点 第一配体 制备 混合体系 纳米晶核 壳层 粒径 非配位溶剂 第二配体 前体物质 铟前驱体 包覆的 小粒径 磷源 合成 生长 | ||
【主权项】:
1.一种InP量子点的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:a)将铟前驱体加入到含有第一配体的非配位溶剂中,形成均匀的铟‑第一配体溶液;b)将所述铟‑第一配体溶液升温至180‑260℃,加入PH3,得到具有较小粒径InP纳米晶核的混合体系;c)向所述混合体系中依次交替加入铟‑第二配体溶液和PH3,得到粒径较大的InP纳米晶核,其中,每次加入的铟‑第二配体溶液中的铟前驱体的物质的量,与溶液中已经含有的铟前驱体的物质的量的比在0.01:1‑0.5:1的范围内;d)加入合成量子点的壳层所需的前体物质,得到具有壳层包覆的InP量子点。
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