[发明专利]线栅偏光电极及其压印模具和制作方法、显示基板在审
| 申请号： | 201610965129.5 | 申请日： | 2016-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN106597762A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 李明辉;陈黎暄 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种线栅偏光电极及其压印模具和制作方法、显示基板，该偏光电极包括采用纳米压印技术在基底上形成的第一线栅，对应于像素开口区，用于透过入射光；第二线栅，覆盖于像素开口区周边的非开口区，用于遮挡入射光。本发明减少了传统的黑色矩阵制程，提高了遮光精度，节省了制作黑色矩阵所需的光罩、工艺及材料等成本，而且提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 电极 及其 压印 模具 制作方法 显示 | ||
【主权项】：
一种线栅偏光电极，包括采用纳米压印技术在基底上形成的：第一线栅，对应于像素开口区，用于透过入射光；第二线栅，覆盖于像素开口区周边的非开口区，用于遮挡入射光。
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