[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶面板及液晶显示屏有效
| 申请号： | 201610948550.5 | 申请日： | 2016-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN106292040B | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 张春倩;陈彩琴 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1362;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 44202 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板制造方法，其特征在于，提供一衬底基板，所述衬底基板上依次形成平坦层、第一公共电极层及第一绝缘层；在所述第一绝缘层上形成金属线层；在所述第二金属层及所述第一绝缘层上沉积形成第二绝缘层；在所述第二绝缘层上形成数个过孔；在形成有过孔的第二绝缘层上形成第二公共电极层。本申请还提供一种液晶面板及液晶显示屏。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 液晶面板 液晶显示屏 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板制造方法，其特征在于，提供一衬底基板，/n所述衬底基板上依次形成平坦层、第一公共电极层及第一绝缘层；/n在所述第一绝缘层上形成第二金属线层；/n在所述第二金属线层及所述第一绝缘层上沉积形成第二绝缘层；/n在所述第二绝缘层上形成数个过孔，包括：形成光阻层，通过图案化工艺所述光阻层形成第二公共电极层图案，其中第二公共电极图案包括数个镂空区；根据所述第二公共电极图案蚀刻所述第二绝缘层，以在所述第二绝缘层上与所述镂空区对应位于形成所述过孔；/n在形成有过孔的第二绝缘层上形成第二公共电极层，包括：在所述光阻层上沉积电极层，去除所述过孔以外的电极层部分以形成第二公共电极层。/n
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