[发明专利]一种基于锥形超表面结构的光伏型光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610947579.1 申请日: 2016-10-26
公开(公告)号: CN106409938B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 王琦龙;陈广甸;翟雨生;李裕培;李晓华 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/101;H01L31/18
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 杨晓玲
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于锥形超表面结构的光伏型光电探测器及其制备方法,所述光电探测器包括自下而上依次设置的表面为三维纳米锥阵列结构的金属衬底、禁带宽度大于入射光子能量的半导体薄膜层、金属薄膜层。本发明提供一种制备这种基于锥形超表面结构的光伏型光电探测器的方法,制备方法包括在铝衬底上制备多孔阳极氧化铝薄膜,然后去除铝衬底表面的阳极氧化铝薄膜,然后再制备半导体薄膜层、金属薄膜层。该三层结构构成超表面结构,通过控制金属薄膜层厚度、半导体层材料厚度或者纳米锥的结构参数可以调控超吸收的吸收频段。此种光电探测器制备工艺简单,便于大面积制备,无需复杂的微纳加工技术,即可实现高效宽波段宽角度光电探测。
搜索关键词: 一种 基于 锥形 表面 结构 光伏型 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于锥形超表面结构的光伏型光电探测器,其特征在于:包括自下而上依次设置的金属衬底、半导体薄膜层以及金属薄膜层;所述金属衬底的表面为三维纳米锥阵列结构;所述半导体薄膜层材料的禁带宽度大于入射光的光子能量;所述金属衬底上的三维纳米锥的高度在100‑1000nm之间,所述三维纳米锥之间的间距保持在100‑2000nm之间;所述半导体薄膜层的厚度在20‑100nm之间;所述金属薄膜层的厚度在15‑50nm之间。
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