[发明专利]晶片及晶片制造方法有效
申请号: | 201610914618.8 | 申请日: | 2016-10-20 |
公开(公告)号: | CN107634032B | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 林柏均 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L23/544 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 王正茂;丛芳 |
地址: | 中国台湾桃园市龟山*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种晶片及晶片制造方法,用以由半导体晶圆制造晶片。半导体晶圆具有多个切割道位于其前表面。该晶片制造方法包含:在半导体晶圆上分别对齐切割道的交集处的位置形成多个裂缝停止结构;沿着切割道照射激光束聚焦于半导体晶圆的内部以诱发裂缝;以及使被照射的半导体晶圆沿着裂缝断裂至裂缝停止结构,进而使被照射的半导体晶圆分割出晶片。借此,分割后晶片可获得较佳的角落品质,因为裂缝停止结构可有效地防止位于边缘的裂缝不能扩展至角落。 | ||
搜索关键词: | 晶片 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种晶片制造方法,用以由半导体晶圆制造多个晶片,所述半导体晶圆具有前表面,所述前表面上定义有多个切割道,其特征在于,所述晶片制造方法包含:在所述半导体晶圆上分别对齐所述多个切割道的交集处的多个位置形成多个裂缝停止结构;沿着所述多个切割道照射激光束聚焦于所述半导体晶圆的内部以诱发多个裂缝;以及使被照射的所述半导体晶圆沿着所述多个裂缝断裂至所述多个裂缝停止结构,进而使被照射的所述半导体晶圆分割出所述多个晶片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南亚科技股份有限公司,未经南亚科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610914618.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种旅游景点禁入区的安全管理装置
- 下一篇:一种交叉高导风鳍片组散热器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造