[发明专利]供给装置,清洁装置,显影装置,处理盒和成像设备有效

专利信息
申请号: 201610898099.0 申请日: 2016-10-14
公开(公告)号: CN106597821B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 村上龙太;小松范行;前田直树;浜田孝俊;纳庄宏明;松丸直树 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 贾金岩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于供给显影剂的供给装置,清洁装置,显影装置,处理盒和成像设备。供给装置包括:容纳构件;第一螺旋供给构件,其在第一供给方向以列出的顺序包括具有第一直径的第一区域和具有小于所述第一直径的第二直径的第二区域;第二螺旋供给构件,其用于沿着与第一供给方向交叉的第二供给方向供给显影剂;和壁,其向第二螺旋供给构件延伸,使得壁相对于第一供给方向朝向第一螺旋供给构件的下游侧与第一螺旋供给构件间隔开,以使显影剂的流动路径分岔。相对于所述第一供给方向,第二区域设置在所述第一区域与第一和第二螺旋供给构件彼此交叉的位置之间。
搜索关键词: 供给 装置 清洁 显影 处理 成像 设备
【主权项】:
一种用于供给显影剂的供给装置,包括:容纳构件,其用于容纳所述显影剂;第一螺旋供给构件,其可旋转地设置在所述容纳构件中并且在供给显影剂的第一供给方向上以列出的顺序包括具有第一直径的第一区域和具有第二直径的第二区域,所述第二直径小于所述第一直径;第二螺旋供给构件,其可旋转地设置在所述容纳构件中,以便沿着与第一供给方向交叉的第二供给方向供给显影剂;和壁,所述壁设置在容纳构件中并且向所述第二螺旋供给构件延伸,使得所述壁相对于第一供给方向朝向所述第一螺旋供给构件的下游侧与所述第一螺旋供给构件间隔开,以便使显影剂的流动路径分岔,其中,相对于所述第一供给方向,第二区域设置在所述第一区域和所述第一螺旋供给构件与所述第二螺旋供给构件彼此交叉的位置之间。
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