[发明专利]供给装置,清洁装置,显影装置,处理盒和成像设备有效
申请号: | 201610898099.0 | 申请日: | 2016-10-14 |
公开(公告)号: | CN106597821B | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 村上龙太;小松范行;前田直树;浜田孝俊;纳庄宏明;松丸直树 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 贾金岩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 供给 装置 清洁 显影 处理 成像 设备 | ||
1.一种用于供给显影剂的供给装置,包括:
容纳构件,其用于容纳所述显影剂;
第一螺旋供给构件,其可旋转地设置在所述容纳构件中并且在供给显影剂的第一供给方向上以列出的顺序包括具有第一直径的第一区域和具有第二直径的第二区域,所述第二直径小于所述第一直径;
第二螺旋供给构件,其可旋转地设置在所述容纳构件中,以便沿着与第一供给方向交叉的第二供给方向供给显影剂;和
壁,所述壁设置在容纳构件中并且向所述第二螺旋供给构件延伸,使得所述壁相对于第一供给方向朝向所述第一螺旋供给构件的下游侧与所述第一螺旋供给构件间隔开,以便使显影剂的流动路径分岔,
其中,相对于所述第一供给方向,第二区域设置在所述第一区域和所述第一螺旋供给构件与所述第二螺旋供给构件彼此交叉的位置之间。
2.根据权利要求1所述的供给装置,还包括第二壁,所述第二壁与所述壁平行地设置在所述容纳构件中并且相对于第一供给方向从所述壁的上游的一侧朝向所述第二螺旋供给构件延伸,使得所述第二壁相对于第一供给方向朝向所述第一螺旋供给构件的下游侧与所述第一螺旋供给构件间隔开。
3.根据权利要求2所述的供给装置,还包括第三壁,所述第三壁平行于所述第一螺旋供给构件地设置在所述容纳构件中,以便与所述第二壁相连。
4.根据权利要求1所述的供给装置,其中,从所述壁相对于第二供给方向与第二区域重叠的重叠位置,所述壁相对于第一供给方向朝向所述第一螺旋供给构件的下游侧与所述第一螺旋供给构件间隔开。
5.根据权利要求1所述的供给装置,其中,所述第二螺旋供给构件设置在所述第一螺旋供给构件在竖直方向上的下方。
6.一种清洁装置,包括:
收集构件,其用于从图像承载构件收集显影剂;和
根据权利要求1所述的供给装置,其用于将由所述收集构件收集的显影剂供给到容纳部分。
7.一种显影装置,包括:
显影剂承载构件,其用于承载要供应给图像承载构件的显影剂;和
根据权利要求1所述的供给装置,其用于将所述显影剂供给到所述显影剂承载构件。
8.一种处理盒,其能够插入到成像设备的主组件中,所述处理盒包括:
图像承载构件;和
根据权利要求1所述的供给装置。
9.一种处理盒,所述处理盒能够插入到成像设备的主组件中,所述处理盒包括:
图像承载构件;和
根据权利要求6所述的清洁装置。
10.一种处理盒,所述处理盒能够插入到成像设备的主组件中,所述处理盒包括:
图像承载构件;和
根据权利要求7所述的显影装置。
11.一种成像设备,包括:
图像承载构件;
根据权利要求1所述的供给装置;和
曝光装置,其用于在所述图像承载构件上形成静电潜像,
其中,所述图像承载构件和所述供给装置设置在处理盒中或者设置在未使用处理盒的所述成像设备的主组件中。
12.一种成像设备,包括:
图像承载构件;
根据权利要求6所述的清洁装置;和
曝光装置,其用于在所述图像承载构件上形成静电潜像,
其中,所述图像承载构件和所述清洁装置设置在处理盒中或者设置在未使用处理盒的所述成像设备的主组件中。
13.一种成像设备,其包括:
图像承载构件;
根据权利要求7所述的显影装置;和
曝光装置,其用于在所述图像承载构件上形成静电潜像,
其中,所述图像承载构件和所述显影装置设置在处理盒中或者设置在未使用处理盒的所述成像设备的主组件中。
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