[发明专利]金属线栅偏光片的制作方法在审
| 申请号： | 201610879175.3 | 申请日： | 2016-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN106324742A | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 陈黎暄 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，采用纳米压印技术与物理气相沉积方法形成金属线栅偏光片，制程简单，与采用传统的蚀刻方法制得的金属线栅偏光片相比，本发明制得的金属线栅偏光片具有更规整的结构以及更好的深宽比，可改善金属线栅偏光片的性能，提升偏振效果。 | ||
| 搜索关键词： | 金属线 偏光 制作方法 | ||
【主权项】：
一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成一光阻层(20)；步骤2、提供一纳米压印模板(30)，采用所述纳米压印模板(30)对所述光阻层(20)进行压印处理，得到光阻图案(40)，所述光阻图案(40)包括间隔设置的多个条形光阻膜层(41)以及位于多个条形光阻膜层(41)之间的多个第一间隔区域(42)；步骤3、采用物理气相沉积方法在所述衬底基板(10)上设有光阻图案(40)的一面沉积金属材料，形成金属薄膜(50)，所述金属薄膜(50)沉积于所述多个条形光阻膜层(41)以及多个第一间隔区域(42)上；步骤4、剥离所述多个条形光阻膜层(41)，在剥离所述多个条形光阻膜层(41)的同时位于所述多个条形光阻膜层(41)上的金属薄膜(50)随之被去除，得到一金属线栅(60)，所述金属线栅(60)包括间隔设置的多条金属线(61)及位于所述多条金属线(61)之间的多个第二间隔区域(62)；所述多条金属线(61)由位于所述多个第一间隔区域(42)的金属薄膜(50)形成，所述多个第二间隔区域(62)形成于所述衬底基板(10)上之前设置所述多个条形光阻膜层(41)的位置；所述金属线栅(60)与位于其底部的衬底基板(10)构成一金属线栅偏光片。
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