[发明专利]降低化学机械抛光工艺热点检测漏报率的方法

摘要

一种降低化学机械抛光工艺热点检测漏报率的方法，包括：第一步骤：执行版图载入；第二步骤：选定格点大小，根据设置的起始点移动步长，并计算两个垂直移动方向上的单方向移动次数；第三步骤：将版图切割起始点(X,Y)按照{(X‑m*s),(Y‑n*s)}进行移动，其中s为起始点移动步长，m和n为整数且初值均为所述单方向移动次数；第四步骤：执行格点几何信息提取；第五步骤：执行化学机械抛光工艺模拟预测；第六步骤：执行热点检测；第七步骤：使得n递增1，在递增1之后的n小于单方向移动次数时，重复第三步骤到第六步骤，或使得m递增1，在递增1之后的m小于单方向移动次数时，使得n递增1，当递增1后的n也小于单方向移动次数时，重复第三步骤到第六步骤。

主权项

1.一种降低化学机械抛光工艺热点检测漏报率的方法，其特征在于包括：第一步骤：执行版图载入；第二步骤：选定格点大小，根据设置的起始点移动步长，并计算两个垂直移动方向上的单方向移动次数；第三步骤：将版图切割起始点(X,Y)按照{(X‑m*s),(Y‑n*s)}进行移动，其中s为起始点移动步长，所述移动步长大于零且小于所述格点大小，m和n为整数且初值均为所述单方向移动次数；第四步骤：执行格点几何信息提取；第五步骤：执行化学机械抛光工艺模拟预测；第六步骤：执行热点检测；第七步骤：使得n递增1，在递增1之后的n小于单方向移动次数时，重复第三步骤到第六步骤，或使得m递增1，在递增1之后的m小于单方向移动次数时，使得n递增1，当递增1后的n也小于单方向移动次数时，重复第三步骤到第六步骤；第八步骤：当递增1之后的m和递增1之后的n都不小于各自单方向移动次数时执行热点综合和热点修复。